Heater : 온도조절 히터
개요
LCD 제조공정 중 process chamber (CVD공정) 내부에 사용하는 part로 hot plate 역할
특징
- AI 재질 내부에 heater가 삽입되어 process 진행 공정 온도 (약300~400도)에 맞게 heating
- 균일한 온도분포와 평탄도, 조도, 전극으로서의 피막 등이 핵심
- 현재 1세대~8세대까지 제작, 양산중
Diffuser : 가스 균일분사장치
개요
LCD 제조공정 중 process chamber (CVD공정)에서 전극형성과 process gas의 균일한 공급 역할
특징
- AI 재질에 일정 size의 hole이 균일하게 가공되어 있는 것으로 평탄도, 피막 등이 핵심
- 현재 1세대 ~ 8세대까지 제작, 양산 체제
Backing Plate
개요
LCD 제조공정 중 diffuser를 통해 Gas가 분사되기 직전에 통과하는 통로로, Gas가 고루 분사되는 것을 도와줌.
특징
- 실제로 공정중에 Chamber내부에 드러나지 않은 부품이므로 세정만 진행함.
Shadow Frame : Glass 고정장치
개요
LCD 제조공정 중 제품으로 제작되는 Glass의 테두리를 눌러주어 고정시켜주는 역
특징
- 중앙이 비어있는 형태의 사각 Frame으로 모형의 변형 없어야함.
- 제품과 가장 가까운 곳에 위치하는 부품으로 가혹한 환경에 노출되므로 표면의 내식성이 좋아야 함.